5槽式純水超音波洗浄装置
 5 Bath DIW Ultrasonic Cleaning System

主にウエハ－・ガラス洗浄に対応しています。
洗浄の各槽に超音波を内蔵しており、使用周波数は４０～１００kHzとなっております。
ウエハ－・ガラス表面の微細なパ－ティクル洗浄に最適です。

Cleaning system designed to clean wafer and glass.
Built-in ultrasonic in each bath. Frequency : 40 - 100kHz
Most suitable for cleaning wafer and glass and removal of micro particle on the surface.
半導体ウエハ－・太陽電池パネル・硝子基板等の
パ－ティクル洗浄＆乾燥
Cleaning/drying semiconductor wafer,
solar cell panel, glass substrate to remove particle

 その他の取り扱い検査装置/Other inspection system

 IR透過検査装置・エッジ検査装置・クラック検査装置・イオン残渣検査機
 IR transmission inspection system, Edge inspection system, Crack inspection system, Ionic residue inspection system


弊社と株式会社エ－・エス・ケ－は、この度共同にて都内に
洗浄・評価・検査用クリ－ンル－ム （クラス10,000） を開設致しました。
小ロット生産向け・試作・評価等お気軽にお申し付けください。
 住　所  ： 東京都足立区新田3-23-13 （日本精電㈱内）
アクセス ： 【電車】JR赤羽・東十条よりタクシーで約10分
【お車】首都高速　鹿浜橋より5分
お問合せ ： 大日商事株式会社　本社　営業部
マネージャー 保母　昌秀 （ホボ　マサヒデ）
e-mail:m_hobo@dainichi-shoji.co.jp

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