HFE 洗浄・乾燥装置
 HFE Cleaning/Drying System

本装置は、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエ－テル）仕様の洗浄・乾燥装置です。
ＨＦＥの不燃焼性・比重が水より重い・非毒性・乾燥性が良い等ＭＥＭＳ内部の水切り置換乾燥に大いに効果があります。
ガラス・レンズ表面のパ－ティクル除去や仕上げ乾燥に対応します。

This system is HFE (hydrofluoroether) cleaning/drying system.
HFE is nonflammable and nontoxic and has large specific gravity and good drying property, which is very effective in drying inside of MEMS.
Suitable for removal of particle on surface of glass/lens and drying for finishing.
MEMS・レンズ・硝子等の洗浄＆乾燥
（MEMS・レンズ・CMOS回路・精密部品）
Cleaning and drying of MEMS, lens, glass, etc.
(MEMS, Lens, CMOS circuit, Precision parts)
4 bath ultrasonic cleaning, Drain system

 その他の取り扱い検査装置/Other inspection system

 IR透過検査装置・エッジ検査装置・クラック検査装置・イオン残渣検査機
 IR transmission inspection system, Edge inspection system, Crack inspection system, Ionic residue inspection system


弊社と株式会社エ－・エス・ケ－は、この度共同にて都内に
洗浄・評価・検査用クリ－ンル－ム （クラス10,000） を開設致しました。
小ロット生産向け・試作・評価等お気軽にお申し付けください。
 住　所  ： 東京都足立区新田3-23-13 （日本精電㈱内）
アクセス ： 【電車】JR赤羽・東十条よりタクシーで約10分
【お車】首都高速　鹿浜橋より5分
お問合せ ： 大日商事株式会社　本社　営業部
マネージャー 保母　昌秀 （ホボ　マサヒデ）
e-mail:m_hobo@dainichi-shoji.co.jp

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